硅片制造方法主要包括以下步骤:

  1. 清洗:首先,将硅块清洗干净,去除表面的油污、灰尘和其他杂质。
  2. 制绒:在清洗后的硅块表面形成一层绒面。这通常通过使用氢氟酸和硝酸的混合溶液进行刻蚀来实现,刻蚀后的硅表面会形成均匀的绒面,有助于降低光致衰减。
  3. 扩散制结:在硅片表面形成一层N型掺杂硅层,并通过退火处理使硅原子重新排列,从而形成P-N结。这个过程也称为扩散制结或热扩散。
  4. 刻蚀与清洗:对已经形成的硅片进行刻蚀,以去除表面的氧化层和其他不需要的物质,并再次清洗以去除刻蚀过程中产生的杂质。
  5. 制孔:在硅片表面制作出微小的孔洞,这些孔洞可以用于后续的光伏电池制造。
  6. 金属化:在硅片的表面沉积一层金属膜,如铝膜,用于后续的电极连接。
  7. 测试与筛选:对制造完成的硅片进行测试,包括电阻率测试、少子寿命测试等,以确保其满足光伏电池的质量要求。

以上就是硅片制造的基本流程,具体工艺可能会因不同的应用领域和设备而有所差异。